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賽晶亞太半導體發布2300V SiC MOSFET——以創新功率器件技術驅動數據中心800V直流架構變革

發布時間:2026-04-10


2026年4月10日,深圳——在“800VDC數據中心能源變革·儲能與第三代半導體協同發展論壇”上,賽晶亞太半導體研發主管Nick Schneider發表了題為《固態變壓器用2300V SiC MOSFET技術方案》的主題演講,正式發布面向下一代數據中心能源系統的2300V碳化硅功率器件解決方案。



行業背景:AI算力增長驅動數據中心能源架構變革

隨著人工智能技術的快速發展,全球數據中心算力需求呈現指數級增長。據行業統計,AI算力每六個月翻一番,而伴隨而來的能耗問題已成為制約數據中心可持續發展的關鍵瓶頸。傳統數據中心采用400V交流配電架構,依賴低頻變壓器實現電壓變換,存在系統損耗高、設備體積大、功率密度低等固有缺陷,難以滿足GPU集群爆發式增長的供電需求。



在此背景下,800V直流配電架構憑借其更高的輸電效率、更簡化的系統拓撲和更優的功率密度,正逐步成為數據中心能源系統升級的主流方向。固態變壓器(Solid State Transformer, SST)作為實現中壓交流到低壓直流高效變換的核心設備,可在無需傳統低頻變壓器的情況下完成能量轉換,顯著提升系統靈活性、可擴展性和整體能效。




技術方案:2300V SiC MOSFET賦能固態變壓器


賽晶亞太半導體基于成熟的m23技術平臺,開發出適用于固態變壓器應用的2300V SiC MOSFET器件。該產品在電壓等級選擇上實現了技術性能與系統成本的最優平衡:相較于1200V器件,2300V器件可支持兩級拓撲結構,減少50%的子系統數量和系統復雜度;相較于更高電壓等級(如6.5kV)器件,則在成本、導通損耗和商用成熟度方面具有顯著優勢。




核心性能參數

SwissSEM 2300V SiC MOSFET具備優異的靜態和動態特性:在150°C結溫條件下,導通電阻RDS(on)僅為45mΩ,開關損耗控制達到業界領先水平,充分滿足固態變壓器高頻、高功率密度的應用需求。



產品系列:多樣化封裝方案滿足系統級需求


針對不同應用場景和拓撲結構需求,賽晶亞太半導體提供FP型(Easy 2B/3B)和XP型等多種封裝方案,支持單開關、H橋、相臂等多樣化拓撲結構。產品電壓覆蓋650V至3300V全系列,并可提供定制化高隔離電壓(Viso)方案,充分滿足多級串聯系統中對散熱器和絕緣設計的嚴苛要求。



總結與展望


Nick Schneider在演講總結中指出:“2300V SiC MOSFET是目前固態變壓器應用中成本與性能的最佳平衡點。結合創新的封裝技術和系統集成能力,我們將加速下一代高效、緊湊、低成本的固態變壓器技術的商業化進程。”

賽晶亞太半導體將持續深耕第三代半導體功率器件領域,以領先的碳化硅技術推動數據中心能源系統向更高效率、更高功率密度方向演進,為全球數字基礎設施的綠色可持續發展提供核心器件支撐。


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